| |
|
|
|
|
|
|
 |
| |
1. CHILLER 란? |
|
| 반도체 제조를 위한 공정 중 웨이퍼 상에 식각(Etching) 공정을 수행하는 주장치인 Dry
Etcher 와 그 외의 공정장비인 Sputter, CVD 등은 내부온도의 정밀한 제어가 요구된다.
반도체 장비용 CHILLER 란, 증발, 압축, 응축, 팽창의 과정을 거치는 냉동이론과 제어 이론을
결합하여, 이러한 요구조건을 만족시킬 수 있는 장치라 할 수 있다. |
|
2. 특징 |
|
장비의 구성에 따라 Single, dual 및 Triple Channel 등 Multi
Channel 의 대응이 가능하며, 정밀한 운전특성, 우수한 제어능력을 갖춤 |
|
3. 종류 |
|
| |
| |
|
|
|
BCU (Brine Chilling Unit) TYPE